As 3-amino-5-mercapto-1,2 wurdt ynademe, 4-triazole, ferpleatse de pasjint asjebleaft nei frisse loft; yn gefal fan hûdkontakt, nimme de besmette klean út en waskje de hûd deeglik mei soapy wetter en wetter. As jo ​​ûngemaklik fiele, freegje dan medysk advys; as jo eachkontakt hawwe, skiedt de eachlidden, spielje mei streamend wetter of normaal sâlt, en sykje direkt medysk advys; as it wurdt opnommen, gorgelje fuortendaliks, brûk net oan, en sykje direkt medysk advys.

It wurdt brûkt om in reinigingsoplossing foar fotoresist te meitsjen

Yn it algemiene produksjeproses fan LED en heallieder wurdt it masker fan fotoresist foarme op it oerflak fan guon materialen, en wurdt it patroan oerbrocht nei eksposysje. Nei it krijen fan it fereaske patroan moat de oerbleaune fotoresist strippen wurde foardat it folgjende proses is. Yn dit proses is it ferplicht de ûnnedige fotoresist folslein te ferwiderjen sûnder in substraat te korrodearjen. Op it stuit bestiet oplossing foar fotoresistreiniging foaral út polêr organysk oplosmiddel, sterke alkali en / as wetter, ensfh. ,

In nij type oplossing foar reinigjen fan fotoresist is ûntwikkele, dat is in net-wetterich leech etsmiddel. It befettet: alkoholamine, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazol en kosolvent. Dizze soarte reinigingsoplossing foar fotoresist kin brûkt wurde om fotoresist te ferwiderjen yn LED en heallieder. Tagelyk hat it gjin oanfal op it substraat, lykas metalen aluminium. Wat mear is, it systeem hat sterke wetterresistinsje en fergruttet it operaasjefinster. It hat in goed oanfreegjen fan tapassing op 'e fjilden fan LED-reiniging en semiconductor-chip.